塑料镀膜反光杯定做诚信企业推荐
发布时间:2020-07-05
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真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的质量和附着性能好。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。可蒸发各种导电材料,金属或合金, 成份不受限制。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。
物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。
2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。
真空镀膜的形式:蒸发镀膜
工艺原理:
1)在真空室中,膜料被加热变成蒸发原子,蒸发原子在真空条件下不与残余气
体分子碰撞而到达工件表面;
2)蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;
3)吸附原子在基材表面发生表面扩散。
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